Analysis of the Thermal Conductivity Mechanism Affecting on the Plasma Parameters in Instability Low Current Vacuum Arc

บทความในวารสาร


ผู้เขียน/บรรณาธิการ


กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์


รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง Pattarakarn PANKAEW, Narong MUNGKUNG, Somchai ARUNRUNGRUSMI, Khanchai TUNLASAKUN, Nat KASAYAPANAND, Wittawat POONTHONG, Apidat SONGRUK, Anumut SIRICHAROENPANICH

ผู้เผยแพร่Wydawnictwo SIGMA - N O T Sp. z o.o.

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.)2024

Volume number100

Issue number NR 9/2024

หน้าแรก194

หน้าสุดท้าย197

จำนวนหน้า4

นอก0033-2097

eISSN2449-9544


ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์


บทคัดย่อ

This analysis used the cathode spot model to describe the physical mechanism of the thermal conductivity effect on the instability phenomena. An analysis of stable arc current is performed by changing the thermal conductivity of copper by compound material. The minimum stability arc was found to be inversely proportional to the thermal conductivity. Low thermal conductivity is more critical in a more stable arc than a high thermal conductivity cathode material. The thermal conductivity is reduced to increase stable arc current by reducing reversed electrons from the plasma region. These results were similar to the obtained data, indicating that this analysis by the cathode spot model, which is used to investigate the thermal conductivity effect in low-current vacuum arc, may be valid for volatile materials


คำสำคัญ

cathode spot modelthermal conductivity


อัพเดทล่าสุด 2025-28-03 ถึง 00:00