Growth and characterization of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive unbalanced magnetron sputtering
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Chaiyakun S., Pokaipisit A., Limsuwan P., Ngotawornchai B.
ผู้เผยแพร่: Springer
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2009
วารสาร: Applied Physics A: Materials Science and Processing (0947-8396)
Volume number: 95
Issue number: 2
หน้าแรก: 579
หน้าสุดท้าย: 587
จำนวนหน้า: 9
นอก: 0947-8396
eISSN: 1432-0630
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
Titanium dioxide thin films were deposited on three different unheated substrates by unbalanced magnetron sputtering. The effects of the sputtering current and deposition time on the crystallization of TiO2 thin films were studied. The TiO2 thin films were deposited at three sputtering current values of 0.50, 0.75, and 1.00 A with different deposition times of 25, 35, and 45 min, respectively. The surface morphology of the films was investigated by atomic force microscopy (AFM). The structure was characterized by X-ray diffraction (XRD) and transmission electron microscopy (TEM). The film thickness was determined by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), and the optical property was evaluated with spectroscopic ellipsometry. The results show that polycrystalline anatase films were obtained at a low sputtering current value. The crystallinity of the anatase phase increases as the sputtering current increases. Furthermore, nanostructured anatase phase TiO2 thin films were obtained for all deposition conditions. The grain size of TiO2 thin films was in the range 10-30 nm. In addition, the grain size increases as the sputtering current and deposition time increase. ฉ 2008 Springer-Verlag.
คำสำคัญ
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่