Low-temperature deposition of (1 1 0) and (1 0 1) rutile TiO2 thin films using dual cathode DC unbalanced magnetron sputtering for inducing hydroxyapatite

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Kasemanankul P., Witit-Anan N., Chaiyakun S., Limsuwan P., Boonamnuayvitaya V.

ผู้เผยแพร่: Elsevier

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2009

วารสาร: Materials Chemistry and Physics: Including Materials Science Communications (0254-0584)

Volume number: 117

Issue number: 1

หน้าแรก: 288

หน้าสุดท้าย: 293

จำนวนหน้า: 6

นอก: 0254-0584

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-67650272356&doi=10.1016%2fj.matchemphys.2009.06.002&partnerID=40&md5=c202892b2d07b41eae850c1c78eb0e86

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

Thin films of both (1 1 0) and (1 0 1) rutile titanium dioxide (TiO2) were synthesized using a dual cathode DC unbalanced magnetron sputtering at low temperature with various substrate bias voltages (Vsb) ranging between 0 and -150 V. The TiO2 film prepared with Vsb = 0 underwent heat treatment after deposition. It was observed that the (1 1 0) rutile phase was deposited on the film with Vsb below -50 V. Furthermore, the film showed high crystallinity after the heat treatment. However, when using Vsb above -50 V, the phase of film shifted to (1 0 1) due to the formation of high-energy particles on the surface. For in vitro testing, the samples were immersed in simulated body fluid (SBF) for 7 days. The heat-treated (1 1 0) rutile shows a poor distribution of hydroxyapatite (HA) formation, generally causing the stress effect. The film was prepared with Vsb = 50 V and observed to form higher crystallinity of HA. ฉ 2009 Elsevier B.V. All rights reserved.

คำสำคัญ

Apatite, Deposition, Rutile, Sputtering, titanium dioxide