Low-temperature deposition of (110) and (101) rutile TiO2 thin films using dual cathode DC unbalanced magnetron sputtering for inducing hydroxyapatite

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Kasemanankul, P; Witit-Anan, N; Chaiyakun, S; Limsuwan, P; Boonamnuayvitaya, V

ผู้เผยแพร่: Elsevier

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2009

วารสาร: Materials Chemistry and Physics: Including Materials Science Communications (0254-0584)

Volume number: 117

Issue number: 1

หน้าแรก: 288

หน้าสุดท้าย: 293

จำนวนหน้า: 6

นอก: 0254-0584

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

คำสำคัญ

Apatite, Deposition, Rutile, Sputtering