Comparison of nanocrystalline TiO2 films prepared on unheated substrates using single-and dual-cathode DC unbalanced magnetron sputtering systems
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Witit-Anun N., Kasemanankul P., Chaiyakun S., Pokaipisit A., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: IOP Publishing
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2010
วารสาร: Japanese Journal of Applied Physics (0021-4922)
Volume number: 49
Issue number: 5 PART 1
หน้าแรก: 511011
หน้าสุดท้าย: 511015
จำนวนหน้า: 5
นอก: 0021-4922
eISSN: 1347-4065
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
Titanium dioxide (TiO2) films were deposited on unheated Si(100) wafers by single- and dual-cathode dc unbalanced magnetron sputtering. Each cathode was specially designed with a high magnetic field strength. The effect of the radial distance from the center of the coating cathode on the film structures was investigated. For the substrate placed at the center of the coating cathode, it was found that the TiO2 films deposited by dualcathode sputtering exhibit rutile with higher crystallinity than films deposited by single-cathode sputtering. At various radial distance from the center to 6 cm to the left and light of the center, mixed phases of rutile and anatase were observed on TiO2 films deposited using both single- and dual-cathode sputtering systems. Furthermore, in the case of using dual-cathode, crystalline TiO2 films were obtained for a longer range to the left of the center than to the right owing to the higher magnetic field strength. ฉ 2010 The Japan Society of Applied Physics.
คำสำคัญ
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่