Use of neural network to model the refractive property of PECVD silicon nitride films used to prevent water permeability of piezoresistive pressure sensor
Conference proceedings article
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Thongvigitmanee T., Srihapat A., Khompatraporn C., Jiraprayuklert A., Titiroongruang W.
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2010
Volume number: 27
Issue number: 1
หน้าแรก: 767
หน้าสุดท้าย: 772
จำนวนหน้า: 6
ISBN: 9781607682639
นอก: 1938-5862
eISSN: 1938-5862
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
The application of plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) silicon nitride, commonly used as the passivation layer for ICs, has been applied to advanced sensors as well. For example, the silicon nitride film coating the piezoresistive pressure sensor of a blood pressure sensor is used to prevent water permeation when immerged into liquid. In this paper, we applied a combination of design-of-experiment (DOE) and neural network to reveal the relationship between input parameters and refractive indexes of PECVD silicon nitride films. We also introduced a metrology to quantify the water permeability into the film based on the corresponding resistance test structure measurement and the break down measurement. These two performance tests are further used to optimize the silicon nitride deposition. ฉThe Electrochemical Society.
คำสำคัญ
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่