Fabrication and characterization of hydrophilic TiO2 thin films on unheated substrates prepared by pulsed DC reactive magnetron sputtering
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Horprathum M., Chindaudom P., Limnonthakul P., Eiamchai P., Nuntawong N., Patthanasettakul V., Pokaipisit A., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: Hindawi
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2010
วารสาร: Journal of Nanomaterials (1687-4110)
Volume number: 2010
นอก: 1687-4110
eISSN: 1687-4129
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
TiO2 thin films were deposited on unheated silicon wafers (100) and glass slides by a pulsed DC reactive magnetron sputtering in an ultrahigh vacuum (UHV) system. The effects of both an operating pressure and deposition time on film structure, surface morphology, and optical property were studied. The film structure and microstructure were characterized by grazing-incidence X-ray diffraction (GIXRD) technique and transmission electron microscopy (TEM). The surface morphology was investigated by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). The optical property of the TiO2 thin films was determined by spectroscopic ellipsometry (SE). The water contact angle measurement was also used to determine hydrophilicity of the films after exposed to UV light. The results suggested that the TiO2 thin film at less than 40nm was amorphous. As the thickness was increased, the mixture of anatase and rutile phases of TiO2 began to form. By reducing the operating pressure during the film deposition, the rutile phase component can also be enhanced. Both the increased film thickness and decrease operating pressure were the critical factors to improve the hydrophilicity of the TiO2 thin films. Copyright ฉ 2010 M. Horprathum et al.
คำสำคัญ
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่