Characterization of (Ti,Al)N thin film coated by PVD cathodic arc using TiAl target

Conference proceedings article

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Chokwatvikul C., Surinphong S., Busabok C., Termsuksawad P., Larpkiattaworn S.

ผู้เผยแพร่: Trans Tech Publications

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2010

Volume number: 93-94

หน้าแรก: 276

หน้าสุดท้าย: 279

จำนวนหน้า: 4

ISBN: 0878492852; 9780878492855

นอก: 1022-6680

eISSN: 1662-8985

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-75649105761&doi=10.4028%2fwww.scientific.net%2fAMR.93-94.276&partnerID=40&md5=fa43cdb365f8812e1b6068bccb0a4639

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

Sintered TiAl alloy with composition of 50 at.% Al and 50at.% Ti are used as target in the PVD cathodic arc system to produce (Ti,Al)N film. The coating conditions are operated using substrate bias voltage and arc current bias of 100V and 70 A, respectively. In addition, the coating time was set at 1.30 h with thru different values of nitrogen gas pressures: 1, 1.5and 2 Pa. After coating the film was characterized for thickness, surface roughness, adhesion, morphology, and phase structure. It was found that phase structures, film thicknesses and adhesion of the films deposited from different nitrogen pressures are not significantly different. However, the micrographs showed that the film prepared by using 1.5 Pa of reactive N2 gas is smoother with less droplets than those film prepared at the other two pressures. ฉ (2010) Trans Tech Publications.

คำสำคัญ

Cathodic Arc, (Ti,Al)N film