Growth of silver nanoparticles by DC magnetron sputtering
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Asanithi P., Chaiyakun S., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: Hindawi
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2012
วารสาร: Journal of Nanomaterials (1687-4110)
Volume number: 2012
นอก: 1687-4110
eISSN: 1687-4129
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
Silver (Ag) nanoparticles are of great interest for many applications. However, their fabrications have been limited by the synthesis methods in which size, shape, and aggregation are still difficult to control. Here, we reported on using direct current (DC) magnetron sputtering for growing Ag nanoparticles on unheated substrates. Effects of sputtering condition on grain size of Ag nanoparticle were discussed. At constant sputtering current and deposition time, the average sizes of Ag nanoparticles were 5.9 ฑ 1.8, 5.4 ฑ 1.3, and 3.8 ฑ 0.7nm for the target-substrate distances of 10, 15, and 20cm, respectively. The morphology evolution from nanoparticles to wormlike networks was also reported. High-resolution transmission electron microscopy image represented clear lattice fringes of Ag nanoparticles with a d-spacing of 0.203nm, corresponding to the (200) plane. The technique could be applied for growth of nanoparticles that were previously difficult to control over size and size uniformity. Copyright ฉ 2012 P. Asanithi et al.
คำสำคัญ
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่