Variation of color in zirconium nitride thin films prepared by reactive dc magnetron sputtering

Conference proceedings article

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Klumdoung P., Asanithi P., Chaiyakun S., Limsuwan P.

ผู้เผยแพร่: Trans Tech Publications

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2011

Volume number: 214

หน้าแรก: 320

หน้าสุดท้าย: 324

จำนวนหน้า: 5

ISBN: 9783037850633

นอก: 1022-6680

eISSN: 1662-8985

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-79952392606&doi=10.4028%2fwww.scientific.net%2fAMR.214.320&partnerID=40&md5=4c13f9cfb6cc7cf233f6c402822eebcc

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

This study is to evaluate a color variation of the zirconium nitride thin film, prepared from deposition technique of different N2 flow rates, ranging from 0.0 to 3.0 sccm, whereas the Ar flow rate is fixed at 3 sccm. The thin film was deposited on an unheated silicon wafer (100) via a reactive DC magnetron sputtering. The deposition current and deposition time were 0.6 A and 15 minutes, respectively. In the study, colors of film were changed from silver, gold, dark brown, brown, purple, pink to blue, when N2 flow rate further increase. Interestingly, the results indicate that gold color occurs in a very small interval of N2 flow rate. ฉ (2011) Trans Tech Publications.

คำสำคัญ

Zirconium nitride thin films