States of particles in DC magnetron sputtering deposition of titanium metallic
Conference proceedings article
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Kongsri W., Chaiyakun S., Witit-Anun N., Honglertkongsakul K., Buranawong A., Limsuwan S., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: Elsevier
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2012
Volume number: 32
หน้าแรก: 943
หน้าสุดท้าย: 949
จำนวนหน้า: 7
นอก: 1877-7058
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
A DC magnetron sputtering of titanium metallic was diagnosed in terms of the states and the spatial distribution of particles in the plasma by a single Langmuir probe. The investigations were carried out with the deposition system previously reported with high quality titania films and under described conditions. The simple experimental set-up had been known for decades but with caution on the extremely complicated of analyses. The experimental accuracy and the plasma characteristics obtained must not only be discussed with theoretical treatments, however, the refinement of the whole process deems necessary. The concurrent of results; the transport of atoms by the knowledge of magnetic field profiling coupled with electron density distributions, the energetic of particles which believed to be responsible for differences in phases formation, would vividly explains the deposition process of the films. Furthermore, the results obtained with a variety of theoretical treatments whether a Maxwellian/non- Maxwellian distribution and on viable of collisionless plasma and the generation of secondary electrons would be discussed with the measured data. ฉ 2010 Published by Elsevier Ltd.
คำสำคัญ
Electron Energy, Langmuir, Magnetic field
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่