Structure and composition of TiVN thin films deposited by reactive DC magnetron co-sputtering
Conference proceedings article
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Deeleard T., Buranawong A., Choeysuppaket A., Witit-Anun N., Chaiyakun S., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: Elsevier
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2012
Volume number: 32
หน้าแรก: 1000
หน้าสุดท้าย: 1005
จำนวนหน้า: 6
นอก: 1877-7058
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
Ternary nitride hard coatings are known of excellent wear characteristics which have proved to be successfully transferable to industrial application. This paper presents the structures and compositions of TiVN thin films deposited by Reactive DC Magnetron Co-sputtering technique from a titanium target and a vanadium target alternatively in a mixed Ar/N2 atmosphere. By variation of the vanadium sputtering current, different samples have been obtained. The sputtering current effects on structures, surface morphologies and element compositions were investigated by X-ray diffraction (XRD), Atomic Force Microscope (AFM) and Scanning Electron Microscope (SEM) employing Energy-Dispersive X-ray Analysis (EDX). It was found that crystal structures, microstructures, surface morphologies and element compositions of TiVN thin films depended on the deposition parameters. All the samples are composed of TiVN crystal structure (111) (200) and (220) planes and the crystallinity of films changed as a function of vanadium sputtering currents. Roughness and average thickness of the films increased from 2.60 to 7.07 nm and 222.78 to 490.99 nm respectively. The EDX results indicated that the atomic ratio of V to Ti was increased from 0.13 to 1.58. ฉ 2010 Published by Elsevier Ltd.
คำสำคัญ
TiVN, Vanadium Sputtering Current
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่