การศึกษาอิทธิพลของอุณหภูมิการให้ความร้อนซ้ำต่อสมบัติทางไตรบอโลยีของฟิล์มเคลือบ H-DLC, TiN และ TiCN

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Robsuek ,Rattiya;Moolsradoo ,Nutthanun

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2016

วารสาร: Chinese Journal of Social Science and Management (2408-2635)

Volume number: 2

Issue number: 1

หน้าแรก: 43

หน้าสุดท้าย: 47

นอก: 2408-2635

URL: https://drive.google.com/file/d/0B5WkLhYjwcJGb2ZqdXZKWU9HXzA/view

บทคัดย่อ

This research aimed to study the influence of reheat temperature on the tribological properties of H-DLC, TiN and TiCN films. Tungsten carbide samples were coated with H-DLC film deposited by Plasma based ion implantation (PBII) process. TiN and TiCN films were deposited by Physical Vapour Deposition (PVD) process. All films were heated at a temperature of 100◦C and cool in furnace, then reheated at temperature of 200◦C and cool in furnace, then 300◦C and cool in furnace, respectively. Heat time was 1 hour. Friction coefficient of films was measured by Tribometer with ball on disk type. The results found that H-DLC film reheated at 200◦C and 300◦C had a low friction coefficient of 0.05 and 0.06, respectively. TiN and TiCN films were shown friction coefficient increase with increasing of reheat temperature due to internal stress in the films, and failed at reheat temperature of 300◦C.

คำสำคัญ

Reheat temperature, Tribology property