Modification of optical and structural properties of DC magnetron sputtered tungsten oxide thin films for electrochromic application
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Yaemsanguansak P., Sittishoktram M., Tuayjaroen R., Ketsombun E., Lertvanithphol T., Luangchaisri C., Jutarosaga T.
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2019
วารสาร: Journal of Metals, Materials and Minerals (0857-6149)
Volume number: 29
Issue number: 2
หน้าแรก: 79
หน้าสุดท้าย: 86
จำนวนหน้า: 8
นอก: 0857-6149
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
The optical properties of tungsten oxide thin films prepared by a reactive DC magnetron sputtering technique were investigated. The influences of O2 flow rates (15 and 18 sccm) and DC sputtering powers (5, 15 and 25 W) on the optical properties of 200 nm-thick tungsten oxide films on indium tin oxide substrates (WO3/ITO/glass) were investigated using UV-visible spectrophotometer. The results indicated that the transmission modulation in visible region between colored state and bleached state of the films increased significantly with decreasing DC sputtering power and increasing O2 flow rate. The results corresponded with the increase of film roughness and density which promoted the intercalation and deintercalation. The diffusion coefficient of the films was extracted from anodic peak current of cyclic voltammogram to determine the charge intercalation across the films. With the deposition power of 5 W and the O2 flow rate of 18 sccm, the films showed the highest transmission modulation and differential optical density in visible region of 23.35% and 0.223, respectively. This information provided an advantage for developing high performance of electrochromic devices. ฉ 2019 Chulalognkorn University.
คำสำคัญ
Electrochromic, Reactive DC magnetron sputtering, Tungsten oxide
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่