Optimization of Annealing Temperature for Thermoelectric Properties in Pt Doped Sb2Te3 Thin Films Fabricated by Magnetron Co-Sputtering

Poster


ผู้เขียน/บรรณาธิการ


กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์


รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่งKhunnapat Sriporaya, Nat Kasayapanand, Mati Horprathum, Athorn Vora-ud, Saksorn Limwichean

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.)2024

ภาษาEnglish-Great Britain (EN-GB)


บทคัดย่อ

Successfully fabricate the Sb2Te3 Pt doped by magnetron co – sputtering technique and varied
temperature of annealing. Annealing process has a significant impact on thickness, dimeter and thin film crystalline structure. The temperature annealing effect to atomic composition. When temperature increased, they effect to Pt decrease and Te increase follow as temperature increase. Annealing temperature has a direct impact on thermoelectric properties.


คำสำคัญ

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง


อัพเดทล่าสุด 2025-25-02 ถึง 12:00