Temperature behavior of atmospheric-pressure non-equilibrium microwave discharge plasma jets for poly(ethylene naptharate)-surface processing

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Yuji T., Urayama T., Fujii S., Mungkung N., Akatsuka H.

ผู้เผยแพร่: Elsevier

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2008

วารสาร: Surface and Coatings Technology (0257-8972)

Volume number: 202

Issue number: 22-23

หน้าแรก: 5289

หน้าสุดท้าย: 5292

จำนวนหน้า: 4

นอก: 0257-8972

eISSN: 1879-3347

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-50349098713&doi=10.1016%2fj.surfcoat.2008.06.056&partnerID=40&md5=cd235dbcca950987bd9cb58aa3555f24

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

To understand the mechanism of surface processing using an atmospheric-pressure non-equilibrium microwave discharge plasma jet, we used optical emission spectroscopy to measure the vibrational and rotational temperatures of plasma. A microwave (2.45 GHz) power supply was used to excite the plasma. The vibrational and rotational temperatures in the plasma were measured at approximately 0.18 eV and 0.22 eV. We also conducted plasma surface processing of polyethylene naphthalate (PEN) film to measure changes in the water contact angle before and after the PEN film was processed, as well as while the rotational temperature of the plasma increased. The hydrophilicity of the PEN film surface was found to improve as the rotational temperature of the plasma increased.

คำสำคัญ

Microwave discharge plasma jet, Optical emission spectroscopy, PEN film, Rotational temperature, Vibrational temperature