Determination of the optical constants and thickness of titanium oxide thin film by envelope method

Conference proceedings article


ผู้เขียน/บรรณาธิการ


กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง


รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่งWitit-anun N., Rakkwamsuk P., Limsuwan P.

ผู้เผยแพร่Society of Photo-optical Instrumentation Engineers

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.)2008

Volume number6793

ISBN9780819469588

นอก0277-786X

eISSN1996-756X

URLhttps://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-43249090886&doi=10.1117%2f12.799420&partnerID=40&md5=d200054d69835330f617a204cf059bdb

ภาษาEnglish-Great Britain (EN-GB)


ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์


บทคัดย่อ

Transparent titanium oxide thin film was deposited by DC reactive magnetron sputtering method onto glass slides and silicon wafer substrates. The film was characterized by AFM, XRD and spectrophotometer for film's thickness, crystallographic structure and transmission spectrum respectively. The film's thickness was, from AFM, found to be about 296 nm. XRD measurement shows that the film is crystallized in rutile phase. Absorption coefficient and the thickness of the films were calculated from interference of transmittance spectra. Optical constants such as refractive index (n) and extinction coefficient (k) were determined as a function of wavelength over the wavelength range from 400 to 800 nm using envelope methods.


คำสำคัญ

Envelope methodOptical constantsOptical thin filmReactive magnetron sputteringTitanium oxide


อัพเดทล่าสุด 2023-01-10 ถึง 10:55