Nanostructure of TiO2 thin films prepared by unbalanced magnetron sputtering

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Pokaipisit A., Chaiyakun S., Limsuwan P., Ngotawornchai B.

ผู้เผยแพร่: World Scientific Publishing

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2009

วารสาร: International Journal of Modern Physics B: Condensed Matter Physics; Statistical Physics; Atomic, Molecular and Optical Physics (0217-9792)

Volume number: 23

Issue number: 10

หน้าแรก: 2395

หน้าสุดท้าย: 2403

จำนวนหน้า: 9

นอก: 0217-9792

eISSN: 1793-6578

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-67549128976&doi=10.1142%2fS0217979209052297&partnerID=40&md5=acf7f5759c7d250d9741c502472f391d

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

In this study, titanium dioxide (TiO2) thin films were deposited on unheated glass substrates using an unbalanced magnetron sputtering system with different deposition times of 25, 35 and 45 min, respectively. The structure and surface morphology of TiO2 thin films were characterized by atomic force microscopy (AFM) and transmission electron microscopy (TEM) with selected-area electron diffraction (SAED). It was found that the crystallite size of TiO2 thin films was in the range of 10 - 20 nm, and the surface roughness was 1 - 3 nm. The SAED patterns show that the phase of TiO2 thin films obtained in this study is anatase phase. ฉ 2009 World Scientific Publishing Company.

คำสำคัญ

Oxide, Surface properties.