INFLUENCE OF CONTINUOUS AND DISCONTINUOUS DEPOSITIONS ON PROPERTIES OF ITO FILMS PREPARED BY DC MAGNETRON SPUTTERING

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Aiempanakit, K; Rakkwamsuk, P; Dumrongrattana, S

ผู้เผยแพร่: World Scientific Publishing

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2009

วารสาร: Modern Physics Letters B (0217-9849)

Volume number: 23

Issue number: 26

หน้าแรก: 3157

หน้าสุดท้าย: 3170

จำนวนหน้า: 14

นอก: 0217-9849

eISSN: 1793-6640

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

คำสำคัญ

Continuous deposition, DC magnetron sputtering, Discontinuous deposition, ITO, Target poisoning