Characterization of inhomogeneity in TiO2 thin films prepared by pulsed dc reactive magnetron sputtering
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Horprathum M., Eiamchai P., Chindaudom P., Nuntawong N., Patthanasettakul V., Limnonthakul P., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: Elsevier
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2011
วารสาร: Thin Solid Films (0040-6090)
Volume number: 520
Issue number: 1
หน้าแรก: 272
หน้าสุดท้าย: 279
จำนวนหน้า: 8
นอก: 0040-6090
eISSN: 1879-2731
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
This article discusses an analytical method for characterizations of TiO2 thin films and determinations of the degree of their inhomogeneity. The TiO2 films were prepared by a pulsed dc magnetron sputtering with an operating pressure as a main experimental parameter. The obtained films were primarily characterized for film crystallinity, microstructures and optical properties by spectroscopic ellipsometry. The measured ellipsometric data were analyzed by the single-, the double, and the triple-layer models in order to match with the inhomogeneous film structure proposed in the Thornton structure zone model. The results were then compared with those obtained from grazing-incidence X-ray diffraction, field-emission scanning electron microscopy and high-resolution transmission electron microscopy. The study revealed that the pulsed dc sputtered TiO2 films could be best described by the inhomogeneous triple-layer physical model. Although the films deposited at lower operating pressure had a dense structure with a mirror-like surface topography, the films deposited at higher operating pressure had the porous structure with the rough surface and the void. ฉ 2011 Elsevier B.V.
คำสำคัญ
Inhomogeneity, Spectroscopic ellipsometry, Transmission electron spectroscopy
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่