Demonstration of modification from ALF3 re-deposition to polymer re-deposition on Air Bearing Surface (ABS) etched sidewall of fluorine-based plasma etch on Al2O3-TiC Substrate

Conference proceedings article

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Pakpum C., Siangchaew K., Limsuwan P.

ผู้เผยแพร่: Trans Tech Publications

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2011

Volume number: 213

หน้าแรก: 93

หน้าสุดท้าย: 97

จำนวนหน้า: 5

ISBN: 9783037850619

นอก: 1022-6680

eISSN: 1662-8985

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-79952404324&doi=10.4028%2fwww.scientific.net%2fAMR.213.93&partnerID=40&md5=6f68b50860ceb0471193a8b9338a06a0

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

In this work, C-F polymer rich re-deposition are generated on the etched side wall of the patterned Air Bearing Surface (ABS). This C-F rich polymer is a by product from using a Surface Technology Systems Multiplex-Pro Air Bearing Etch (ABE) tool that utilizes fluorine base plasma. The morphology of the re-deposition and elemental composition are investigated via scanning electron microscope. The chemical bonding information is characterized via attenuated total reflected infrared spectroscopy. The purpose of this work is to demonstrate the modification of AlF3 re-deposition to polymer rich re-deposition allows complete re-deposition removal with isopropyl alcohol base solution. This offers advantage as the re-deposition removal is incorporated during the resist strip process offering superior cleanliness of slider head without additional process steps. ฉ (2011) Trans Tech Publications.

คำสำคัญ

Fluorine base plasma, Polymer re-deposition, RIE etching