RIE Re-deposition Investigation of Fluorine-based Plasma Etch on AlO3-TiC Substrate

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Pakpum, C.;Siangchaew, K.;Limsuwan, P.

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2011

วารสาร: วารสารวิจัย มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีราชมงคลธัญบุรี (1686-8420)

Volume number: 14

Issue number: 1

หน้าแรก: 87

หน้าสุดท้าย: 92

นอก: 1686-8420

บทคัดย่อ

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

คำสำคัญ

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง