Oxygen partial pressure dependence of the properties of TiO2 thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering
Conference proceedings article
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Horprathum M., Eiamchai P., Chindaudom P., Pokaipisit A., Limsuwan P.
ผู้เผยแพร่: Elsevier
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2012
Volume number: 32
หน้าแรก: 676
หน้าสุดท้าย: 682
จำนวนหน้า: 7
นอก: 1877-7058
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
Thin films of TiO2 have been deposited on glass and silicon wafers (100) substrates by DC reactive magnetron sputtering from a 99.995% pure titanium target. The influence of the oxygen partial pressure on the optical, crystallinity, surface morphology and UV-induced hydrophilic properties has been studied. The films were characterized by UV-VIS spectrophotometer, X-ray diffractometer, atomic force microscopy and scanning electron microscope. The UV-induced hydrophilicity of the films was measured by the contact angle variation. The results showed that the crystalline anatase, anatase/rutile or rutile films can be successfully deposited on unheated substrate. The best hydrophilicity was obtained on the well-crystallized anatase TiO2 thin film deposition with 5.0ื10-3 mbar oxygen partial pressure. The optical band gap of TiO2 thin films increased with increasing oxygen partial pressure, from 3.21 to 3.28 eV, with film thickness of 135 nm. ฉ 2010 Published by Elsevier Ltd.
คำสำคัญ
Hydrophilic, Oxygen partial pressure, Sputtering
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่