A deep AlTiC dry etching for fabrication of Burnish and Glide slider head

Conference proceedings article

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Pakpum C., Limsuwan P.

ผู้เผยแพร่: Elsevier

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2012

Volume number: 32

หน้าแรก: 1037

หน้าสุดท้าย: 1042

จำนวนหน้า: 6

นอก: 1877-7058

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84892624335&doi=10.1016%2fj.proeng.2012.02.051&partnerID=40&md5=4cc1cc35b902b8be518730b28e85985e

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

As a commercial photolithography dry film is not possible to achieve a very deep (greater than 30μm) step etch, to fabricate Burnish head and Glide head in slider fabrication section of hard disk drive industry, by dry etching of ceramic Al2O3-TiC material due to the low etch selectivity of substrate to dry film mask. This paper aim to investigate the etch selectivity of substrate to hard metal mask which have high potential that significantly to increase the etch selectivity allowable to produce the 30 μm AlTiC etch depth and etch rate of the two type of fluorine-based plasma; SF6 plasma versus CF4 plasma are also explored. © 2010 Published by Elsevier Ltd.

คำสำคัญ

Burnish head, Glide head, RIE