The study on the effect of multi-level exposure technique to fabricate air bearing surface microstructure
Conference proceedings article
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Pholprasit P., Atthi N., Thammabut T., Jeamsaksiri W., Hruanun C., Poyai A., Silapunt R.
ผู้เผยแพร่: Hindawi
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2011
หน้าแรก: 26
หน้าสุดท้าย: 29
จำนวนหน้า: 4
ISBN: 9781457704246
นอก: 0146-9428
eISSN: 1745-4557
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
บทคัดย่อ
Many photolithography and etching steps for a fabrication of an Air Bearing Surface (ABS) structure which is responsible for the aerodynamic behavior of a read/write head make a significant impact to HDDs overall cost. To reduce a cost/time consuming, the ABS can be fabricated by a technique called "multi-level exposure". This technique focuses on the exposure by changing the UV light intensity after moving the stage to a new position until all positions are completely exposed. The exposed wafer is then developed and etched in a single step to form 3 levels of the ABS structure. The relation between the remaining photoresist (PR) film thickness and the single- and the double-exposure dose can be calculated by using the exponential equations with 95.8% and 91.5% correlation, respectively. ฉ 2011 IEEE.
คำสำคัญ
3-D lithography, Air Bearing Surface, Hard disk drive, Multi-level exposure, Slider head
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่