Influence of the substrate bias voltage on the structure of rutile TiO 2 films prepared by dual cathode DC unbalanced magnetron sputtering

Conference proceedings article

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Kasemanankul P., Witit-Anun N., Chaiyakun S., Limsuwan P.

ผู้เผยแพร่: Trans Tech Publications

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2012

Volume number: 506

หน้าแรก: 82

หน้าสุดท้าย: 85

จำนวนหน้า: 4

ISBN: 9783037854068

นอก: 1022-6680

eISSN: 1662-8985

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84860798534&doi=10.4028%2fwww.scientific.net%2fAMR.506.82&partnerID=40&md5=44a7fda5a82f7e277efdecadc9104611

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

Rutile TiO 2 films are normally used as biomaterial that synthesized on unheated stainless steel type 316L and glass slide substrates by dual cathode DC unbalanced magnetron sputtering. The influence of the substrate bias voltages (V SB), from 0 V to -150V, on the structure of the as-deposited films was investigated. The crystal structure was characterized by grazing-incidence X-ray diffraction (GIXRD) technique, the film's thickness and surface morphology was evaluated by atomic force microscopy (AFM) technique, respectively. The results show that the as-deposited films were transparent and have high transmittance in visible regions. The crystal structure of as-deposited films show the XRD patterns of rutile (110) with V SB at 0V and shifted to rutile (101) with increasing V SB. The films roughness (R RMS) and the thickness were 3.0 nm to 5.7 nm and 420 nm to 442 nm, respectively. ฉ (2012) Trans Tech Publications.

คำสำคัญ

Rutile, Substrate bias voltage, Thin film