Laser-induced fluorescence detection of OH radicals generated by atmospheric-pressure nonequilibrium DC pulse discharge plasma jets

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Yuji T., Mungkung N., Kawano H., Kanazawa S., Ohkubo T., Akatsuka H.

ผู้เผยแพร่: Institute of Electrical and Electronics Engineers

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2014

วารสาร: IEEE Transactions on Plasma Science (0093-3813)

Volume number: 42

Issue number: 4

หน้าแรก: 960

หน้าสุดท้าย: 964

จำนวนหน้า: 5

นอก: 0093-3813

eISSN: 1939-9375

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84898822301&doi=10.1109%2fTPS.2014.2306199&partnerID=40&md5=8d35245c0a01c0505b10567ac2ef3201

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

It has been proven that many types of radicals released from atmospheric-pressure plasma can provide effective surface treatment and modification of materials. However, the method for measuring radicals generated with atmospheric-pressure plasma and their reaction mechanisms have not become clear in material surface processing. The OH radical distribution was measured successfully in nonequilibrium atmospheric-pressure dc pulse discharge plasma jet by use of the laser-induced fluorescence system. The OH transition A 2Σ+v′=1 X2Π (v′′=0] at 282 nm was used to monitor the ground-state OH radicals. © 2014 IEEE.

คำสำคัญ

Argon gas, atmospheric-pressure plasma, dc pulse discharge, laser-induced fluorescence (LIF), OH radical.