Low-Temperature naturatron sputtering system for deposition of indium tin oxide film

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Thungsuk N., Yuji T., Kasayapanand N., Mungkung N., Nuachauy P., Arunrungrusmi S., Nakabayashi K., Okamura Y., Kinoshita H., Kataoka H., Suzaki Y., Hirata T.

ผู้เผยแพร่: Institute of Electrical and Electronics Engineers

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2014

วารสาร: IEEE Transactions on Plasma Science (0093-3813)

Volume number: 42

Issue number: 10

หน้าแรก: 3391

หน้าสุดท้าย: 3396

จำนวนหน้า: 6

นอก: 0093-3813

eISSN: 1939-9375

URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84908454937&doi=10.1109%2fTPS.2014.2356332&partnerID=40&md5=8b232a12e458b988c6dc46c1687b15cc

ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)

ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์

บทคัดย่อ

In this paper, we have newly developed a metal thin film-forming sputtering system using the Naturatron Sputtering method that can prevent the plastic film from suffering damage caused by the high-energy particles in plasma and carry out the low-temperature high-density metal deposition with a sputtering chamber and a film deposition chamber separated from each other. This system has made it possible to deposit the indium tin oxide (ITO) thin film on the poly(ethylene naphthalate) film as a substrate. As a result of energy-dispersive X-ray spectroscopy analysis or scanning electron microscope analysis performed for the ITO thin film, it has been proven that the uniform-surface ITO thin film can be deposited on a plastic film. ฉ 2014 IEEE.

คำสำคัญ

indium tin films, Naturatron Sputtering method, poly(ethylene naphthalate) (PEN) film