การศึกษาอิทธิพลของธาตุซิลิคอนที่ส่งผลต่อค่าสัมประสิทธิ์ความเสียดทานของฟิล์มเคลือบคาร์บอนคล้ายเพชรที่ถูกอบภายใต้อุณหภูมิสูง

บทความในวารสาร

ผู้เขียน/บรรณาธิการ

กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์

ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง

รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์

รายชื่อผู้แต่ง: Sunthornpan ,Narin;Chancherdchu ,Krittapon;Rittiphat ,Warawut;Moolsradoo ,Nutthanun

ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2016

วารสาร: Chinese Journal of Social Science and Management (2408-2635)

Volume number: 2

Issue number: 2

หน้าแรก: 8

หน้าสุดท้าย: 13

นอก: 2408-2635

URL: https://drive.google.com/file/d/0B5WkLhYjwcJGeGJhN2QzODhYMVU/view

บทคัดย่อ

This research aimed to study the influence of silicon element on friction coefficient of Diamond-Like Carbon film annealed under high temperature. Silicon wafer samples were coated with Si-DLC film prepared from gaseous mixtures of C2H2:TMS at 2:1, 1:2 and 1:4 ratios, deposited by Plasma Based Ion Implantation (PBII) technique. Film thickness was 500 nm. The films were annealed at 400ฐC, 450ฐC, 500ฐC, 550ฐC and 600ฐC for 1 hour and then cool in furnace. The friction coefficient of films was measured by Ball on disk friction tester. The results found that Un-annealed Si-DLC film at flow rate ratio of 2:1 (30.97at.%Si) had a lowest friction coefficient of 0.05, and showed heat resistance up to 600ฐC with a friction coefficient of 0.02.

คำสำคัญ

Surface Coating