Study on the Influence of Silicon Element on Friction Coefficient of Diamond-Like Carbon Film Annealed Under High Temperature

Journal article

Authors/Editors

Strategic Research Themes

No matching items found.

Publication Details

Author list: Sunthornpan ,Narin;Chancherdchu ,Krittapon;Rittiphat ,Warawut;Moolsradoo ,Nutthanun

Publication year: 2016

Journal: Chinese Journal of Social Science and Management (2408-2635)

Volume number: 2

Issue number: 2

Start page: 8

End page: 13

ISSN: 2408-2635

URL: https://drive.google.com/file/d/0B5WkLhYjwcJGeGJhN2QzODhYMVU/view

Abstract

วัตถุประสงค์งานวิจัยนี้คือทำการศึกษาอิทธิพลของธาตุซิลิคอนที่ส่งผลต่อค่าสัมประสิทธิ์ความเสียดทานของฟิล์มเคลือบคาร์บอนคล้ายเพชรที่ถูกอบภายใต้อุณหภูมิสูง โดยที่ชิ้นงาน Silicon wafer ถูกนำไปเคลือบด้วยฟิล์มเคลือบ Si-DLC ซึ่งถูกเตรียมจากการผสมระหว่างก๊าซ C2H2:TMS ที่อัตราส่วน 2:1, 1:2 และ 1:4 โดยเคลือบด้วยเทคนิค Plasma Based Ion Implantation (PBII) ความหนาฟิล์มเท่ากับ 500 นาโนเมตร ฟิล์มจะถูกอบที่อุณหภูมิ400°C, 450°C, 500°C, 550°C และ 600°C เป็นเวลา 1 ชั่วโมง แล้วจึงปล่อยให้เย็นตัวในเตา ค่าสัมประสิทธิ์ความเสียดทานของฟิล์มถูกวัดด้วย Ball on disk friction tester ผลการทดลองพบว่า ฟิล์มเคลือบ Si-DLC ที่ไม่ถูกอบที่อัตราส่วน 2:1 (30.97at.%Si) มีค่าสัมประสิทธิ์ความเสียดทานต่ำที่สุดเท่ากับ 0.05 และทนอุณหภูมิได้ถึง 600°Cโดยมีค่าสัมประสิทธิ์ความเสียดทานเท่ากับ 0.02

Keywords

Surface Coating