Kinetic removal of haloacetonitrile precursors by photo-based advanced oxidation processes (UV/H2O2, UV/O3, and UV/H2O2/O3)
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Srithep S., Phattarapattamawong S.
ผู้เผยแพร่: Elsevier
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2017
วารสาร: Chemosphere (0045-6535)
Volume number: 176
หน้าแรก: 25
หน้าสุดท้าย: 31
จำนวนหน้า: 7
นอก: 0045-6535
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
The objective of the study is to evaluate the performance of conventional treatment process (i.e., coagulation, flocculation, sedimentation and sand filtration) on the removals of haloacetonitrile (HAN) precursors. In addition, the removals of HAN precursors by photo-based advanced oxidation processes (Photo-AOPs) (i.e., UV/H2O2, UV/O3, and UV/H2O2/O3) are investigated. The conventional treatment process was ineffective to remove HAN precursors. Among Photo-AOPs, the UV/H2O2/O3was the most effective process for removing HAN precursors, followed by UV/H2O2, and UV/O3, respectively. For 20min contact time, the UV/H2O2/O3, UV/H2O2, and UV/O3suppressed the HAN formations by 54, 42, and 27% reduction. Increasing ozone doses from 1 to 5 mgL−1in UV/O3systems slightly improved the removals of HAN precursors. Changes in pH (6–8) were unaffected most of processes (i.e., UV, UV/H2O2, and UV/H2O2/O3), except for the UV/O3system that its efficiency was low in the weak acid condition. The pseudo first-order kinetic constant for removals of dichloroacetonitrile precursors (k′DCANFP) by the UV/H2O2/O3, UV/H2O2and standalone UV systems were 1.4–2.8 orders magnitude higher than the UV/O3process. The kinetic degradation of dissolved organic nitrogen (DON) tended to be higher than the k′DCANFPvalue. This study firstly differentiates the kinetic degradation between DON and HAN precursors. © 2017 Elsevier Ltd
คำสำคัญ
Advanced oxidation process (AOPs), Dissolved organic nitrogen (DON), Haloacetonitriles, Nitrogenous disinfection byproducts (N-DBPs)
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่