High-performance hydrogen evolution reaction catalysis achieved by small core-shell copper nanoparticles
บทความในวารสาร
ผู้เขียน/บรรณาธิการ
กลุ่มสาขาการวิจัยเชิงกลยุทธ์
ไม่พบข้อมูลที่เกี่ยวข้อง
รายละเอียดสำหรับงานพิมพ์
รายชื่อผู้แต่ง: Liu C., Dong H., Ji Y., Rujisamphan N., Li Y.
ผู้เผยแพร่: IWA Publishing
ปีที่เผยแพร่ (ค.ศ.): 2019
วารสาร: Water Science & Technology (0273-1223)
Volume number: 551
หน้าแรก: 130
หน้าสุดท้าย: 137
จำนวนหน้า: 8
นอก: 0273-1223
eISSN: 1996-9732
ภาษา: English-Great Britain (EN-GB)
ดูในเว็บของวิทยาศาสตร์ | ดูบนเว็บไซต์ของสำนักพิมพ์ | บทความในเว็บของวิทยาศาสตร์
บทคัดย่อ
This research aimed to investigate the degradation of natural organic matter responsible for the formation of trihalomethane (THM), haloacetic acid (HAA) and haloacetonitrile (HAN) during ultraviolet (UV) photolysis and a co-exposure of UV with chlorine (UV/chlorine) and chloramine (UV/ chloramine). Low pressure UV (LPUV) and vacuum UV (VUV) lamps were used for photolysis. VUV and LPUV irradiation changed aromatic/unsaturated structures to aliphatic ones, resulting in decreased THM and HAN formation. Following irradiation for 60 min, LPUV decreased THM and HAN by 16% ฑ 2% and 20% ฑ 6%, respectively. VUV decreased THM and HAN formation by 23% ฑ 3% and 20% ฑ 8%, respectively. HAA formation increased following photolysis. UV/chlorine treatment decreased THM, HAA and HAN. Higher chlorine doses had an inversely proportional relationship with THM and HAN formation. A chlorine dose of 4 mgทL1 led to the greatest reductions, corresponding to 42% ฑ 2%, 10% ฑ 10% and 18% ฑ 6% for THM, HAA and HAN, respectively. UV/chloramine decreased the formation of THM more than UV/chlorine. With a chloramine dose of 4 mgทL1, THM, HAA and HAN formation decreased by 74% ฑ 10%, 10% ฑ 10% and 11% ฑ 10%, respectively. This study showed the potential use of UV/chlor(am)ine for controlling the formation of THM, HAA and HAN. ฉ IWA Publishing 2019 Water Science and Technology.
คำสำคัญ
UV/chlor(am)ine, UV photolysis
ติดต่อสอบถามเพิ่มเติมได้ที่